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염화제이철 용액에 의한 금속 에칭의 분극거동
Plarization behavior of metal etching on ferric chloride etchants
등록
:
2008.09.03
⋅ 68회 인용
출처
:
표면기술
, 43권 2호 1992년, 일본어 5 쪽
분류
:
연구
자료
:
있음(다운로드불가)
저자
:
Ryuji UEDA
1)
Shikuji ASAKURA
2)
Sotaro TOKI
3)
Takeo SUGIURA
4)
기타
:
자료
:
분류 :
분극거동
⋅
염화제이철
⋅
목록
plating.kr 로고
알루미늄 표면처리제
P+station 로고
자료요약
카테고리 :
엣칭/부식
| 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2014.07.29
염화제이철 용액에 의한 금속에칭의 기구해명을 직접분극거동으로 검토하여 연구
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