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Katsuya Kikuchi 1건
비시안화 도금욕에서 무전해 Au 석출을 사용한 플립칩 본딩을 위한 Au 마이크로범프 어레이의 형성
Formation of Au Microbump Arrays for Flip-Chip Bonding Using Electroless Au Deposition from a Non-Cyanide Plating Bath
저자 :
Tokihiko Yokoshima1) Kentaro Nomura2) Yasuhiro Yamaji3) Katsuya Kikuchi4) Hiroshi Nakagawa5) Kohji Koshiji6) Masahiro Aoyagi7) Ryota Iwai8) Tomoaki Tokuhisa9) Masaru Kato10)
기타 :
Transactions of The Japan Institute of Electronics Packaging
자료 :
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자료요약
카테고리 : 금은/합금 | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2023.07.24
무전해 Au 도금욕을 사용하여 플립칩 본딩을 위한 Au 마이크로범프 어레이의 형성을 조사하였다. 일반적으로 무전해 Au 석출은 낮은 속도를 제공하여 높이가 5μm 이상인 Au 범프의 제조를 방지한다. 이 문제를 극복하기 위해 비시안화물 수조를 사용하는 새로운 무전해 Au 석출 공정을 개발하였다. 이 프로세스는 특히 미세...
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침지주석 (치환) 도금 ^ Tin Immersion Plating 침지주석은 무전해 방법을 사용하여 치환 석출된 주석으로 PCB 의 구리층에 주로 사용한다. 주석 도금은 [회로기판] 의 산화...
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United Chromium 을 인수한 M&T Chemicals 는 SRHS 솔루션으로 시장을 확장했다. SRHS 는 자체 조절 고속욕을 말한다. Gebauer 는 H2SiF6 를 두 번째 촉매로 사용하고 ...
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50 ℃ 에서 시안화소다, 2- 메르캅토벤조티아졸 또는 오산화바나듐 안정제와 EDTA 를 복합무전해 용액에서 구리도금의 미세구조 및 물리적 특성을 연구하였다. 최대 25 μ...
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광택 Ni-P 도금을 16~25 um/시간의 균일한 두께의 도금이 가능하다. 철소재 비철소재 알루미늄 등의 소재에 도금이 가능하며 8~10 MTO 사용이 가능하다.
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백금도금액 분석 ^ Platinum Plating Bath Analsys 준비약품 : 진한염산 증류수 아세트산나트륨 (CH3COONa 3H2O), 진한개미산(C-HCOOH) 백금 분석방법 도금액 10 ㎖ 를 삼각...