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고인 무전해니켈도금
High Phosphorus Electroless Nickel Plating

등록 2024.03.26 ⋅ 120회 인용

출처 일본특허, 2017-527688, 일본어 14 쪽

분류 특허

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자료요약
카테고리 : 니켈/Ni | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2024.03.26
니켈 이온 공급원, 유효량의 티오우레아, 유효량의 사카린, 차아인산 이온 공급원, 하나 이상의 킬레이트제, 첨가제의 고인 무전해 니켈 도금으로 진한 질산에 30초간 침지하여도, 흑색 또는 회색으로 변화하지 않는 도금
  • 코팅기술을 세라믹 공구 및 기계 부품에 응용 한 예를 언급하고, 이온주입에 대해서도 간단히 설명한다.
  • 반복 단위-(SiH2NH)- 를 원료로 하는 과수소 폴리실라잔 (PHPS / Perhydro polysilazane) 전구체 용액을 사용하여 증기응고에 의해 새로운 저표면 에너지 보호피막을 실험 ...
  • 도금피막의 특성 ^ Plating Film Characteristics 도금욕 첨가제 경도 (HV) 항장력 (Kg/mm2) 신율 (%) 응력 (Kg/mm2) 비고 (%) 구리 시안화욕 없음 100~160 40~80 30...
  • 스테인레스 파이프나 철 파이프에 니켈을 입혔을때......파이프의 구부림 등 외부 충격을 가하여도 피막층이 떨어져 나가지 않게 하는 방법을 필요로 하고 있습니다. 기존 ...
  • 할로젠 (할로겐) · Halogen 주기율표의 17족 원소를 말한다. 이들 원자의 최외각 전자 껍질에는 전자가 7개 존재하기 때문에 다른 원소로부터 전자를 하나 받아 음이온이 되...