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주사터널 현미경에 의한 무전해도금 박막 석출과정의 in situ 관찰
In-Situ scanning tunneling microscopy observation of electroless-deposition process

등록 2008.07.31 ⋅ 44회 인용

출처 표면기술, 43권 5호 1992년, 일어 5 쪽

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 니켈/Ni | 글입력 : 무대뽀 | 최종수정일 : 2021.01.22
주사터널 현미경을 무전해도금 석출과정의 in situ 관찰에 적용한 예를 설명하고, 본 방법을 무전해도금 석출반응의 해석에 이용한 설명
  • 고경도를 가지며 내식성 내마모성등이 우수하여, 공업용 도금으로 기대되는 니켈-몰리브덴 Ni-Mo 합금도금에 관하여 전기도금에 의한 종래의 과제를 해결한 신규 Ni-Mo 합금...
  • 비 AlCl3 계 RTIL을 이용한 합금전석에 관하여 해설하고, RTIL에 유사한 물리화학적특성을 가진 요소계 용융체를 이용한 합금전석에 관하여 소개
  • 알루미늄 제품 화학 광택 솔루션의 원료는 다음과 같이 구성된다. 황산 (Sulfuric acid) 110~166 mL/L; 인산 (Phosphoric acid) 382~466 mL/L; 붕산 (Boric acid) 2~3 g/L; ...
  • 산성 용액을 산화시켜 무전해 니켈 도금을 에칭함으로써 무전해 흑색 니켈 표면을 제조하였다. 흑색 표면에 대한 인과 황 함량의 영향을 조사하기 위해 에칭 전ㆍ후 피막의 ...
  • CTAB Cetyltrimethyl Ammonium Bromide CAS No. 57-09-0 C19H42BrN = 364.45 g/mol CCCCCCCCCCCCCCCC〔N+〕(C)(C)C〔Br-〕 양이온성 아민 기반 4급 계면활성제 살균방부제, ...