도금 첨가제 제조 원료약품 - 글라스 기판상의 무전해 NiP 도금의 초기 석출거동

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글라스 기판상의 무전해 NiP 도금의 초기 석출거동

Initial deposition behavior of electroless nickel pn glass substrate

등록 : 2008.08.10 ⋅ 59회 인용

출처 : 표면기술, 53권 4호 2002년, 일어 6 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

저자 :

Seiji YAMAMOTO¹⁾ Katsuhiko TASHIRO²⁾ Hideo HONMA³⁾

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자료요약

카테고리 : 니켈/Ni | 글입력 : 무대뽀 | 최종수정일 : 2022.07.22

도금조건 및 도금욕 조성을 여러가지로 변화하여, 글라스 기판상에 있어서 무전해니켈도금의 초기 석출과정의 반응유도기, 석출속도 및 석출형태에 관한 검토와 보고서

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