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습식 표면처리 개발을 위한 연구/문헌 자료실 (로그인 필요) 이용을 환영합니다. 외뢰어는 기본적으로 한글 표준 발음 (포리머 → 폴리머 / 알카리 → 알칼리)을 사용하였습니다. 많이 사용되는 용어는 일반관 용어 (Nickel → 니켈) / (신주 / 구리-아연 합금 → 황동)을 사용하였습니다. 2개 이상의 합금...
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무전해 도금액중의 차아인산 이온의 흡광광도 정량
과망간산염 인산에 산화철(iii) 침전법을 사용하여 도금액중의 차아인산염의 흡광정량에 대해 검토했다. 차아인산염 이온은 철(iii) 침전법에 의해 아인산이온을 제거한 액에 과망간산칼륨 용액을 첨가하여 차아인산염 이온을 올소인산 이온으로 하여 산화철(iii)을 첨가하여 pH 5 로 조정하면, 차아인...
시험분석
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분석화학 · 39권 12호 1990년 · Futoshi SUGIMOT ·
Hiroki IWATA
외 ..
참조 36회
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전시안 및 시안화물 분석에 있어서 시안화 수소의 생성과 전시안 분석 전처리법의 개량
시안을 사용하지 않는 공장의 폐수나 폐기물에서 시안이 검출되는 원인은, JIS 에 정해진 전시안 분석방법의 문제점을 밝히고, 분석법의 개량을 목적으로 한 보고서
시험분석
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분석화학 · 58권 2호 2009년 · 野村 誠 ·
참조 28회
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금속 재료의 부식 방지 기법으로 금속 표면에 아연, 알루미늄, 니켈, 금 등의 도금이 되어 있다. 이러한 도금의 대기 부식의 메카니즘에 대해서는 널리 보고되고 있지만, 시장에서의 실제 부식의 재현 방법과 촉진시험 방법에 대해서는별로 소개되어 있지 않다. 그러나 6가크롬이나 납 등의 유해 물질 ...
시험분석
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표면기술 · 63권 10호 2012년 · Shigeo SUGA ·
Shin WATANABE
참조 65회
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도금욕관리의 새로운 방향 : 멀티타스크 전기화학 프로브를 사용한 전기도금욕 -건전성의 고속 자기진단법
계측된 샘플욕의 형태가, 프로세스 억제의 관점에서 정상으로 도금이 가능한 범위에 속하거나, 아니면 염화물 이온농도의 저하나 오염물질 소위 2차적으로 생성된 서프레서의 존재에 의한 아우트라인에 속하는가를 판단 할수있는 분석모델의 개발과 그 트레이닝에 관점을 둔 연구
시험분석
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표면기술 · 63권 9호 2012년 · Aleksander JAWORSKI ·
Hanna WIKIEL
외 ..
참조 26회
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지난 10년 동안 산업용 전기도금 작업장을 위해 특별히 설계된 CVS 분석 장비의 가용성은이 기술을 헐셀 다음으로 두 번째로 만들었으며, 보증된 품질 표준을 충족하는 것과 관련된 도금 기의 주요 선택이 되었다. "폐쇄 루프" 자동 첨가물 투여를 위해 CVS 를 사용하려는 욕구, 통계적 공정 제어 (SPC)...
시험분석
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Metal FInishing Guide Book · NA · Rita Gluzman ·
Peter Bratin
외 ..
참조 55회
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PCB 제조에 사용하기 적합한 유기첨가제 분석에 대한 접근방식을 포함하여 구리 전기도금욕 제어에 사용되는 방법에 대한 개요를 설명하였다.
시험분석
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DOW · n/a · Mark Lefebvre ·
참조 30회
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도금피막의 RoHS분석을 통하여 개발된 도금피막중의 미량성분분석방법의 확인시험에 관한 설명
시험분석
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표면기술 · 63권 8호 2012년 · Taru HATANAKA ·
참조 25회
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이온 크로마토그라피의 원리와 도금액 분석응용 예
IC 법은 도금액의 주성분은 물론 불순물등의 미량성분도 고감도로 단시간에 정량할수 있다. 일반적인 무기 음이온이나 양이온 외에, 첨가제, 전이금속 유가이온, 킬레이트시약의 정량에 유효한 방법이며, 도금액의 품질관리, 환경 배출액의 관리, 원재료의 관리등이 사용되고 있다.
시험분석
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표면기술 · 63권 8호 2012년 · Kazue YOSHIMURA ·
Takahiro SUZUKI
외 ..
참조 20회
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헐셀시험 (고속헐셀을 포함한) 의 원리와 분석 사례
헐셀 HullCell 시험은 도금액의 평가 및 도금액의 관리 외에도 새로운 도금욕의 개발에 이용되고 있으며, 헐셀시험의 원리와 실제의 결과에 관하여 설명
시험분석
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표면기술 · 63권 8호 2012년 · Kimiko KOIWA ·
Wataru YAMAMOTO
참조 197회
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CVS (Cyclic Voltammetry Stripping)는 미국 ECI 회사에서 첨가제를 측정하기 위해 개발되었다. 지금까지는 첨가제의 농도를 알기 위해 헐셀 시험 관리를하고 왔지만, 수치 관리를 요구하는 시대가 왔다. 그래서 고안된 것이 전기 화학 분석 방법을 도금액 관리에 응용 한 CVS 법이다. 표면 상태의 도금...
시험분석
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표면기술 · 63권 8호 2012년 · Tsuneo TEZUKA ·
참조 92회
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