|
습식 표면처리 개발을 위한 연구/문헌 자료실 (로그인 필요) 이용을 환영합니다. 검색(로그인 필요)은 아래 내용을 참조하여 주시기 바랍니다. 외뢰어는 기본적으로 한글 표준 발음 (포리머 → 폴리머 / 알카리 → 알칼리)을 사용하였습니다. 많이 사용되는 용어는 일반관 용어 (Nickel → 니켈) / (신주 /...
|
|
다마신 구리 Cu 의 용해가 알코올 함유 인산 H3PO4 전해연마 전해질에서 유기산의 촉진제에 어떻게 의존하는지 탐구하였다. 다른 촉진제, 아세트산, 구연산, 시트라진산 및 벤조산을 포함하는 4 가지 2 첨가제 전해질을 평가 하였다.
인쇄회로
·
Electrochemical Society · 153권 6호 2006년 · Sue-Hong Liu ·
Jia-Min Shieh
외 ..
참조 73회
|
알루미늄 광택 표면처리에 사용되는 인산의 회수
R5 공정은 농축된 (65~80 % w/w) 인산과 소량의 질산, 인산이암모늄 및 구리를 결합하여 황산 양극산화 전에 알루미늄 부품을 화학적으로 연마한다. 부품 표면에서 금속을 제거하면 인산알루미늄이 산에 축적되지만 수준은 일반적으로 30~45 g/L (알루미늄) 범위에서 안정화된다. 농도가 높을수록 전해...
회수재생
·
eco-tech · na · Kebin Munns ·
Jim Sullivan
참조 51회
|
|
구리 Cu 및 구리 Cu / 탄탈룸 Ta / 실리콘 Si 웨이퍼 샘플의 전해연마는 다양한 인산기반 전해질에서 회전 디스크전극을 사용하여 연구하였다. 희석제를 사용하면 광범위한 물농도에 액세스 할수 있으며 Cu 전해연마중 용해속도를 감소시켜 다마신 처리에 대한 가능한 적용을 단순화한다. 측정된 제한 ...
도금자료기타
·
Electrochemical Society · 151권 6호 2004년 · Bing Du ·
Ian Ivar Suni
참조 53회
|
전류밀도와 전해액의 인산농도가 Ti 양극 산화 피막에 미치는 영향
치과용 임플란트로 사용할 목적으로 Ti를 양극산화시킬 때 전해액을 구성하는 인산의 농도와 전류밀도를 공정변수로 하여, 상기 공정변수가 Ti산화막의 표면상태, 결정구조 및 화학성분에 미치는 영향에 대해 연구
양극산화
·
대한금속재료학지 · 46권 6호 2008 · 김계성 ·
정원섭
외 ..
참조 33회
|
|
알루미늄 및 아연도금 철강과 같은 금속표면을 처리하기 위한 수용액이 공개되었다. 용액은 유기 인산염 또는 포스포네이트와 플루오르화 염화물의 혼합물이다. 처리용액은 크롬처리 용액 대신에 스웨이드될수있다.
도금자료기타
·
미국특허 · 1994-5294265 · Ralph C. Gray ·
Michael J. Pawlik
외 ..
참조 33회
|
아연도금강판의 PO4(-3) 첨가에 따른 Chromate특성
Cr+6가 주성분인 도포형 크로메이트 용액에 PO4-3을 인산의 형태로 첨가하여 피막특성에 미치는 영향을 조사
크로메이트
·
산업과학기술연구소 · · 이규헌 ·
이윤주
외 ..
참조 39회
|
|
합금에 약 8 % 이상의 니켈을 포함하는 흑색 아연-니켈 합금표면을 준비하는 방법이 설명되어 있다. 본 발명의 방법은 상기표면을 무기산의 무 크롬 산성수용액과 접촉시키는 것을 포함한다. 바람직하게는 무기산은 인산이다.
크로메이트
·
미국특허 · 1995-5393353 · Craig V. Bishop ·
참조 29회
|
