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검색글 H.B. Muralidhara 5건
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Pstation Data Box · 2019 ⋅ S.I.HONG ⋅
습식 표면처리 개발을 위한 연구/문헌 자료실 (로그인 필요) 이용을 환영합니다. 외뢰어는 기본적으로 한글 표준 발음 (포리머 → 폴리머 / 알카리 → 알칼리)을 사용하였습니다. 많이 사용되는 용어는 일반관 용어 (Nickel → 니켈) / (신주 / 구리-아연 합금 → 황동)을 사용하였습니다. 2개 이상의 합금...

아연은 안트라닐산 (ANA) 과 푸르푸랄 (FFL) 사이에 형성된 축합생성물을 포함하는 비시안화 알칼용 용액으로 부터 전기화학적으로 전착되었다. 도금액 성분 및 도금액변수는 표준 헐셀실험을 통해 최적화 되었다. 3.5 % NaCl 의 전류효율, 침투력, 음극분극 및 부식거동은 첨가제의 최적 농도에서 ...

아연/합금 · Chemical Technology · 15권 2008년 · H.B. Muralidhara · Y. Arthodba Naik 외 .. 참조 15회

나노 아연피막을 전착에 의해 연강에 도금하였다. 아연 석출표면 및 부식 특성에 대한 결정의 크기 형태에 대한 첨가제의 효과를 조사했다. 부식 테스트는 전기화학적 측정을 사용하여 염화나트륨 NaCl 수용액 (3.5 wt. %) 에서 아연 도금과 광택아연 도금에 대해 수행되었다. 그 결과 아연도금 공정에...

아연/합금 · Bull. Mater. Sci. · 31권 4호 2008년 · H.B. Muralidhara · Y. Arthoba Naik 참조 31회

새로 합성된 첨가제가 산성 염화욕에서 Zn-Ni 합금도금에 미치는 영향을 연구하였다. 전류효율, 투사전력, 음극분극 및 내식성에 대한 결과도 보고되었다.

아연/합금 · Chemical Technology · 15권 2008년 · H.B. Muralidhara · Y. Arthoba Naik 외 .. 참조 47회

아연은 안트라닐산 (ANA) 과 푸르푸랄 (FFL) 사이에 형성된 축합 생성물을 포함하는 비시안화 알칼리 용액으로부터 전기화학적으로 도금되었다. 도금욕성분 및 변수는 표준 헐셀 실험을 통해 최적화되었다. 3.5 % NaCl 의 전류효율, 침투력, 음극분극 및 부식거동은 첨가제의 최적농도에서 연구되었...

아연/합금 · Chemical technology | india · 15권 2008년 · H.B.Muralidhara · Y Arthoba Naik 외 .. 참조 44회

글리실-글리신 (GGL) 과 푸르푸랄 (FFL) 사이에 형성된 축합 생성물이 존재하는 상태에서 황산욕에서 아연 전착이 수행되었다. 욕성분은 헐셀 실험을 통해 최적화 되었다. pH, 온도 및 전류밀도와 같은 작동변수도 최적화 되었다. 전류효율과 침투력을 측정하였다. 분극화 연구는 첨가제의 존재하에 음...

아연/합금 · Bull. Mater. Sci. · 29권 5호 2006년 · H.B. MURALIDHARA · Y.A. NAIK 외 .. 참조 33회