5-5-디메틸히단토인을 착화제로 사용한 산성 카드뮴 도금 공정 최적화
시안화물이 없는 카드뮴 도금의 불안정한 도긍욕의 안정성 및 도금성능 문제를 해결하기 위해 5,5-디메틸히단토인 (DMH) 을 주요 착화제로 사용하고 CdCl2를 주요 염으로 사용하는 새로운 카드뮴 도금 공정 연구하였다. 카드뮴 염 및 DMH 함량의 영향, 보조 착화제의 유형 및 농도, pH 값, 전류 밀도를 ...
전기도금기타
·
Plating and Finishing · 45권 1호 2023년 · Huang Yong ·
Wu Ning
외 ..
참조 21회
|
