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검색글 주석도금 49건
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Pstation Data Box · 2019 ⋅ S.I.HONG ⋅
습식 표면처리 개발을 위한 연구/문헌 자료실 (로그인 필요) 이용을 환영합니다. 검색(로그인 필요)은 아래 내용을 참조하여 주시기 바랍니다. 외뢰어는 기본적으로 한글 표준 발음 (포리머 → 폴리머 / 알카리 → 알칼리)을 사용하였습니다. 많이 사용되는 용어는 일반관 용어 (Nickel → 니켈) / (신주 /...

수용액에서 무전해 도금법에 의한 주석-탄소섬유 (CF) 의 복합도금을 연구하였다. 환원제로 차아인산나트륨을 사용하였다. 자동차 섬유 표면은 주석 층으로 완전히 도금될 수 있으며 무전해 도금을 통해 탄소 섬유에 연속적인 주석 피막이 얻어지는 것으로 나타났다. 이러한 주석-탄소섬유 복합재는 전...

합금/복합 · Brno · May 2016 · KARTAL Muhammet · ALP Ahmet 외 .. 참조 12회

새로운 주석 전착 화학 및 공정이 미국 뉴저지의 Bell Laboratories Lucent Technologies 에서 개발되었다. 이 공정을 통해 안정적이고 큰 입자 구조를 갖는 매끄럽고 광택이 나는 사틴 주석 도금이 생성된다. 석출물은 매우 낮은 유기 함량을 함유하고 있으며 결과적으로 우수한 연성, 납땜성 및 리플...

석납/합금 · Circuit World · 25권 1호 1998년 · Yun Zhang · Joseph A. Abys 참조 12회

현재 전기도금은 다양한 금속이 사용된다. 그러나 도시 문명 초기부터 알려지고 사용된 최초의 금속 중 하나인 주석이다. 주석은 융점이 낮고 연성이 있는 부드러운 금속으로 금속 및 화합물로 사용된다. 금속으로는 주로 합금이나 피복재로 사용되며, 그 화합물은 농업, 플라스틱, 의약품 분야에서 관...

석납/합금 · Leiden University · 2021-03-17 · Aranzales Ochoa · 참조 15회

메탄설폰산 및 알칸올설폰산과 같은 새로운 주석 도금욕을 광범위하게 시험하였다. 생산성이 높은 주석 도금 공정을 개발하기 위해 페놀설폰산 기반 욕에 의한 고전류 밀도 (HCD) 주석 도금을 연구하였다. 주석도금의 특성과 도금 조건 (전류 밀도, 주석 이온 농도, 유속) 사이의 관계를 조사하였다...

석납/합금 · PLATING & SURFACE FINISHING · Jul 1997 · S. Hirano · Y. Oyagi 외 .. 참조 17회

황산주석, 글루콘산소다 및 황산칼륨을 포함하는 도금욕에서 다양한 도금욕 구성, pH, 전류밀도 및 온도 조건 하에서 철강 소재에 전기도금 하였다. 전위역학적 음극 분극, 음극 전류 효율, 미세 구조 및 전착물 형태에 대한 이러한 매개변수의 영향에 대해 자세히 연구하였다. 도금욕의 글루코네이트 ...

석납/합금 · Plating & Surface Finishing · Sep 2000 · S.S. Abd El Rehim · S.M. Sayyah 외 .. 참조 45회

메탄설폰산주석(II) Sn(CH3SO3)2 욕은 공업용 메탄설폰산 CH3SO3H(MSA) 또는 황산등의 전해질 보충 또는 보충 중에 사용되는 불순한 물에서 발생하는 소량의 염화물 Cl- 를 함유할 수 있다. Sn(CH3SO3)2 전해질을 사용할 때 자주 발생하는 문제는 제2주석 슬러지의 형성이다. 산화 방지제가 Sn(IV) 형성...

석납/합금 · Plating & Surface Finishing · Nov 2004 · Nicholas M. Martyak · 참조 62회

주석 도금에 사용되는 [메탄설폰산] 전해액을 연구하고, 생성된 전착물의 특성을 산업용 [페놀설폰산]욕 주석도금 특성과 비교하였다. 메탄설폰산 전해질로부터 매끄럽고 밀착력이 있으며 광택 주석 도금이 얻어졌는데, 이는 공업용 욕조에서 전착된 주석과는 형태와 질감이 달랐다. 도금의 바람직한 결...

석납/합금 · JMEPEG · 24권 6호 2015년 · L.N. Bengoa · W.R. Tuckart 외 .. 참조 25회

전기도금된 주석 피막은 마이크로 전자 공학, 리튬 이온 배터리 및 내부식성과 같은 여러 기술에 중요다. [메탄설폰산] 기반 주석도금의 미세 구조에 대한 두가지 유기첨가제인 하이드로퀴논과 젤라틴의 농도를 변화를 실험하였다. 하이드로퀴논을 단독으로 첨가하면 전기도금 중 수소가스 방출로 덴드...

석납/합금 · Electrochemical Society · 165권 16호 2018년 · Yeasir Arafat · Sujala T. Sultana 외 .. 참조 128회

새로운 순수 주석 MSA 공정인 Niveostan ™ 은 뛰어난 기술 성능과 상당한 비용 절감 이점을 위해 UV로 쉽게 분석할 수 있는 단일 첨가제를 기반으로 개발되었다. 첨가제는 Sn(IV) 형성을 억제하는 산화 방지제가 포함되었다. Niveostan ™* 전착은 부드러운 형태와 큰 결정 입자로 인해 다른 공정에서 제...

석납/합금 · Atotech Deutschland · · Olaf Kurtz · Peter Kühlkamp 외 .. 참조 85회

Cu 소재에 도금된 무광 Sn 전착에 포함된 과도한 에너지는 화학적으로 대략 1×10-22 로 추정된다. 입계 자유 에너지는 과도한 에너지에 기여하지 않는 것으로 나타났다. 위스커 성장에 충분한 변형 에너지는 우리가 일반적으로 관찰하는 것 (ca.-10MPa) 보다 훨씬 더 많은 응력 (ca.+400 또는 -400 MPa)...

석납/합금 · 표면기술 · 57권 7호 2006년 · Kiyotaka TSUJI · 참조 85회