로그인

검색

검색글 11079건
히드라진을 환원제로한 텅스텐 함유 코발트의 무전해도금
Electroelss plating of Cobalt Containing Tungsten using Hydrazine as a reducing agent

등록 2008.08.19 ⋅ 44회 인용

출처 표면기술, 55권 8호 2004년, 일본어 3 페이지

분류 해설

자료 있음(다운로드불가)

자료

  • 관련자료가 없는 경우 관련사이트 또는 Web에서 검색하십시요.

분류
자료요약
카테고리 : 합금/복합 | 글입력 : 무대뽀 | 최종수정일 : 2014.09.10
캡메탈로서 응용목적으로 린이 공석하지않는 히드라진을 환원제로 하용하여, 텅스텐을 함유하고 인을 함유하지 않는 코발트층을 무전해 도금법으로 동소지상에 성막을 검토 [ヒドラジンを還元剤とするタングステン含有コバルトの無電解めっき]
  • TiO2 광촉매 처리를 통한 폴리이미드(PI) 필름의 표면 개질을 조사하였다. 표면 개질된 PI 필름의 표면 형상, 표면 접촉각 및 접착 강도에 대한 TiO2 함량, 처리 시간 및 UV...
  • 염화 니켈, 플루오 라이드, 브로마이드, 요오드포메이트, 아세테이트, 설파메이트, 플루오로 보레이트, 붕산염 및 황산염은 질산 내성 및 경도뿐만 아니라 도금 속도 및 도...
  • 다크로타이즈드 · Dacrotizing 다크로라고도 부르는 다크로타이즈드는 사용되는 처리액 (다크로딥) 에 금속아연 프레이크·무수크롬산·글리콜 등이 분산된 수용액이다. 다크...
  • 습식도금법의 일렉트로닉스 분야의 응용에 관하여, 반도체배선형성기술, 프린트배선판제조기술, 실장기술 및 광파이버상의 금속피막에 관하여 설명
  • 2가 크롬이온을 기본으로한 도금욕을 사용하여, 크롬전석의 조건을 검토하고, 얻은 결과를 보고