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분산도금
Dispersion Plating

등록 2008.09.11 ⋅ 45회 인용

출처 Web, na, 일어 4 쪽

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na1)

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分散めっき

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자료요약
카테고리 : 종합자료 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2021.02.17
분산도금을 위한 기본욕 조성으로 염화크롬 붕산과 글리신, 설파민산 암모늄 등의 각종 유기물을 첨가한 것을 사용하고, 욕온도 30~60 ℃, 전류밀도 10~60 A/dm2 의 범위에서 실험을 하였다. 이 욕조에 평균 입경 6.7 μm 의 알루미나 입자를 첨가하여 교반하면서 도금을 실시했다. 크롬도금 중에 다량의 알루미나 입자가 균일...
  • 마이크로퍼러스 니켈도금으로 내식성 향상
  • 주석도금의 불량대책 ^ Tin Plating Trouble shooting 황산 주석도금욕 나뭇결도금 광택제 부족→분석후 보충 황산부족→분석후 보충 입자석출 첨가제의 부족→분석후 수정 금...
  • 니켈은 우수한 전기 촉매금속이며 니켈 전극은 다양한 전기화학 분야에서 많은 응용분야를 찾는다. 니켈도금된 전극은 니켈-티타늄산의 도금으로 연강표면의 전착기술로 준...
  • 금도금의 용도 Gold Plating Application|1| 시안화금(1)칼륨을 이용한 알칼리 금도금욕은 예전부터 사용되는 금도금욕으로, 색상을 위주로한 얇은 금도금, 18k 금도금 등으...
  • 최신의 반도체 배선재료는 저저항으로 고주파특성이 우수하기 때문에 알루미늄 대신 구리가 사용되고 있다. 부미크론 치수법의 트렌치와 비아에 매립용으로, 첨가제를 활용...