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표면처리기술문헌 : 습식표면처리 연구문헌자료

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석출물에 균열이 본질적으로 없는 무전해 석출에 의해 소재상에 구리 전착물을 일관되게 생성하는 방법
Method of consistently producing a Copper deopsit on a subdtrate by electroless deposition which deposit is essentially free of fissures

등록 : 2008.08.22 ⋅ 54회 인용

출처 : 미국특허, US 4908242, 영어 21 쪽

분류 : 특허

자료 : 웹 조사자료

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자료요약
카테고리 : 구리/Cu | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2022.02.13
무전해 금속도금 용액은 고유 양극 반응 속도의 110 % 미만으로 용액의 고유 음극반응 속도를 설정하여 고품질 금속 도금을 제공하도록 제조 및 제어한다.

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