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무전해 Ni/침지 금 Au 의 환경 - 최종 리포트
Electroless Ni/Immersion Au Evaluation - Final Program Report

등록 : 2008.08.22 ⋅ 49회 인용

출처 : EADC, Sep 14, 1998년, 영어 64 쪽

분류 : 해설

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 니켈/Ni | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2021.01.02
무전해 니켈 Ni/ 침지 금 Au 도금공정 (이 문서 E-Ni / I-Au 에서 참조) 은 PCB 및 BGA 기판에 사용되어 구리패드를 산화로부터 보호하고 납땜 가능한 표면을 제공한다. 다양한 부하조건에서 Ni- 납땜 인터페이스의 조기고장이 BGA 조인트에서 감지되었다. 이러한 실패는 관절강도가 저하되었음을 나타낸다. 이 약점의 근본...
  • 토세이셀 (롱셀) ㆍ TOSEI Cell 일명 롱셀 이라고도 부르며 기존 [헐셀]보다 음극을 크게하여 저전류부를 확대하여 시험할 수 있다. 시험 액량은 500 ml 야마모토 시험기의 ...
  • 소재표면에 색채감이 풍부한 도안이나 문자등을 정밀인쇄와 도금으로 만든 고급복합장식피막의 가공법 톧상 하이플레이트 기술에 관하여 소개
  • 청결은 일반적으로 먼지가 없는 것으로 정의되며 그 반대의 경우도 마찬가지다. 일반적으로 받아 들여지는 실제적인 정의는 없지만 이러한 용어가 긍정적이거나 부정적인 의...
  • 염화 아연도금조에 소량의 염화암모늄이 존재하면 심각한 폐기물 처리 문제를 일으키지 않고 비용을 크게 절감하고 도금부품의 품질을 높일수 있다.
  • 중인 니켈층을 사용한 무전해 니켈 및 침지 금(ENIG) 도금 공정은 현재 휴대폰 인쇄회로 기판(PWB) 의 최종 마무리에 사용된다. 추세에 따르면 휴대폰의 전세계 시장 성...