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고 아스펙트렌치내에 있어서 무전해 니켈도금의 균일 석출성
HIgh aspect of Trench in electroless Nickel plating uniformed deposite

등록 2008.10.31 ⋅ 54회 인용

출처 일럭트로닉스실장학회, 18권 SPACE 2004년, 일본어 2 페이지

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 니켈/Ni | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2020.11.08
마이크로 트렌치내의 무전해 니켈도금에 있어서, 착화제의 영향이 크므로, 이들의 석출거동에 관하여 전기화학적 방법으로 검토 [高アスペクトトレンチ内における無電解ニッケルめっきの均一析出性]
  • SUS 304 판재(두께 45μm)의 Photo Etching과 각종 구리도금액의 Electroforming을 위한 도금 특성 연구결과
  • 5086합금의 각종 전처리 공정에 있어서 광택도, 표면조도 및 무전해 Ni-P 도금피막의 밀착성 및 전처리 조건의 영향에 관하여 검토
  • 알루미늄과 알루미늄 합금 Aluminium Alloy 알루미늄은 알루미나 (Al2O3) 가 주성분인 보크사이트 라는 광석에서 알루미나를 분리, 추출하고 이것을 용융된 빙정석 중에서 ...
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  • Jiggle cell은 실제 도금 탱크 조건을 재현하기 위한 최고의 시험 장비라 할수있다. 지그셀은 구부러진 음극 패널을 사용하며 구성재료가 대부분의 도금 용액에 사용할 수 ...