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치환구리막의 생성기구에 관하여
The Mechanism of the formation of galvanically substituted CU-Films

등록 : 2009.12.31 ⋅ 40회 인용

출처 : 금속표면기술, 18권 2호 1967년, 일어 쪽

분류 : 해설

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 치환도금 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2020.10.18
체심 입방형 금속에 화학적 치환석출로 성장했다 면심 입방형 금속막에 대한 기본질과 결정학적 관련성 및 생성기구등 구조를 조사하기 위해 저자가 행한 철표면에 석출 성장시켜 치환 구리막을 제거 하였다.
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