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무전해 Ni-P 피막상 치환 금 도금피막에 있어서 P 함유율의 영향
Effects of P content of Electroless Ni-P under layer on Desplacement Au Films

등록 2010.05.28 ⋅ 99회 인용

출처 써킷테크노로지, 9권 2호 1994년, 일어 5 쪽

분류 연구

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기타

無電解Ni-P皮膜上置換Auめっき皮膜に及ぼすP含有率の影響

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자료요약
카테고리 : 니켈/Ni | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2020.05.21
무전해 Ni-P 도금피막상에 치환 Au도금피막을 형성할때의 납땜부착성에 있어서 Ni-P 도금피막중의 P 함유율의 영향을 검토
  • 금 Au 은 다양한 유기유도체를 형성하며, 그 준비와 구조는 I 부에서 검토되었다. 여기서는 이러한 화합물의 다양한 반응이 유기금의 잠재력과 실제 적용에 대한 III 부의 ...
  • 화학도금 용액 및 공정, 특히 안정화된 화학도금용액 및 이러한 용액을 사용한 화학도금 공정에 관한 것이다.
  • ABS수지판에 니켈 및 구리이온을 혼합수산화물 콜로이드를 흡착하고, 이 위에 물리적인 카본 및 아연을 균일하게 증착하는 방법
  • 직접 구리도금의 기술발전과 그 이유를 검토하였다. 이 논문은 또한 화학적 성질에 따라 귀금속 활성화제, 탄소 콜로이드 용액 및 전도성 고분자와 같은 기존공정의 분류를 ...
  • 코발트 Co 전석막의 우선배향성에 관하여, 전해조건, 욕조성의 변화를 검토하고, Co 해석의 분극곡선을 측정하여 우선배향과의 관련을 고찰