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마이크로와 나노전자의 무전해 공정
Electroless processes for micro- and nanoelectronics

등록 : 2014.09.23 ⋅ 30회 인용

출처 : Electrochimica Acta, 48권 2003년, 영어 10 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

저자 :

Yosi Shacham-Diamand1) A. Inberg2) Y. Sverdlov3) V. Bogush4) N. Croitoru5) H. Moscovich6) A. Freeman7)

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자료요약
카테고리 : 무전해도금통합 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2020.12.31
금속의 무전해도금은 마이크로 및 나노기술에서 많은 응용분야를 가지고 있다. 현재 무전해 구리 Cu, 코발트 Co, 니켈 Ni, 은 Ag 및 그 합금은 ULSI (초대 규모 통합) 및 MEMS (microelectro-mechanical system) 용 인터커넥트 및 패키징 애플리케이션의 재료로 사용된다. 무전해 방법은 100 nm 미만의 상호연결, 접점 ...
  • 불활성 입자의 미세분산을 포함하는 금속매트릭스의 복합도금을 얻기 위해 불활성입자를 기존의 전기도금조에 통합하는 기술은 오랫동안 알려져 왔다. 이 기술에는 마모 및 ...
  • 최근 개발된 고알칼리액을 이용한 볼탐메트릭법, 아노드 분극법, 전해발생-취소 부가법등 3가지 방법에 관하여 설명
  • 특수한 촉매를 함유한 장식용 크롬도금 첨가제 - 작업 전류범위가 넓고, 피복성 우수, 사용농도범위가 넓다 [Chromylite K-40 Process]
  • 철주물을 정의하고, 철주물을 주강, 주철로 나누어, 이들의 간단한 설명과, 주철의 도금하기위한 전처리방법을 설명
  • COLGLEAM Sn / BRIGHT ACID TIN PLATING PROCESS / me290518_COLGLEAM_Sn.pdf The Use of Alkaline Cyanide-Free Zinc Plating Under Paint and Powder Coatings : me290602...