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무전해구리 도금액에서 착화제가 접착력에 미치는 영향에 대한 고찰
Effect of Complexing Agents on Adhesion Strength between Electroless Copper Film and Ta Diffusion Barrier

등록 2014.10.21 ⋅ 34회 인용

출처 한국표면공학회지, 47권 4호 2014년, 한글 6 쪽

분류 해설

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자료요약
카테고리 : 구리/Cu | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2023.08.21
대표적인 착화제인 EDTA-4Na 및 로셀염을 선택하여 각 착화제가 구리피막의 비저항 및 접합력에 미치는 영향에 대하여 알아보았으며, 그 원인을 XRD 를 통한 구조분석결과를 통하여 고찰하였다.
  • 내부 응력은 외부 유기 및 금속 오염 물질의 포함으로 인해 전기 도금 및 화학적으로 적용된 피막 내에 고유한 힘으로 존재한다. 이러한 물질은 자연적인 격자구조에 따라 ...
  • 질산아연과 질산셀륨을 함유한 수용액에서, 전기화학적으로 은 Ag 막 위에 아연-셀륨-산소 Zn-Ce-O 막을 형성하여, 수용액중의 Ce 농도에 따라 Zn-Ce-O 막의 Ce 함유량, 결...
  • 장수명, 고안정성 마그네슘 합금 무전해니켈도금액을 개발하기 위해 티오우레아, 요오드산칼륨 등의 안정제를 첨가하여 도금액의 안정성, 도금속도, 피막품질 및 기타 ...
  • 진공증착법은 수 Ω 이하의 저저항 및 수 ㏀ 이상의 고저항의 제작이 곤란하므로 낮은 TCR 특성을 가지 저항체의 제작을 중심으로 설명하고, 전처리와 재질의 성질이 저항특...
  • 종래의 구리-니켈 도금을 대신으로, 리사이클후 합금성분으로 마그네슘에 함유되어도 내식성에 악영향을 주지않는 아연-주석 도금법을 검토