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붕산 황산 혼합전해액을 이용한 알루미늄의 양극산화와 붕소 함유량
Morphology and Boron Content of Anodic Aluminum Oxide Films Formed in Boric/Sulfuric Acid Baths

등록 : 2015.03.23 ⋅ 49회 인용

출처 : 표면기술, 45권 11호 1994년, 일어 6 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

저자 :

기타 :

ホウ酸硫酸混合電解液を用いるアルミニウムの陽極酸化とホウ素含有量

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자료요약
카테고리 : 양극산화 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2020.11.14
붕산/황산 양극산화 공정은 더 엄격한 환경 규정을 충족하기 위해 크롬산 양극산화를 대체하기 위해 미국에서 개발되었다. 붕산/황산 필름과 황산 필름의 미세 구조에 대한 비교 연구가 수행되었다. 산화막의 황 및 붕소 함량은 즉각적인 감마선 분석에 의해 결정되었다. Vt 및 It의 유형은 곡선이며, 기공의 형태는 양극산...
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  • HDM
    HDM ^ 2,5-dimethyl -3-hexyne -2,5-diol C8H14O2 = g/㏖ CAS : 142-30-3 성상 : 백색고상 순도 : > 97% 용도 : [반광택니켈도금|반광택 니켈도금] 및 [광택니켈도금|광택 ...
  • 염화제2철계 에칭액의 재생방법 및 구리 에칭용 염화제이철 염화제이구리 과황산암모늄계의 각용액, 반도체 (Si) 에칭용의 불산 혼액, 수지 에칭용의 중크롬산계 혼액등 각...