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TOF-SIMS 에 의한 도금막중에 혼입된 도금첨가제의 거동 해명
Research on behavior of an electro-plating additive in electro-plated films by TOF-SIMS
자료
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자료요약
카테고리 : 전기도금기타 | 글입력 : 무대뽀 | 최종수정일 : 2015.01.16
TOF-SIMS 와 AES 의 내부방향분석과 STEM 관찰, STEM/EDS 분석에 의한 도금막의 층구조, 농도변화를 밝히는 연구
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구리의 화학적 기계적 평탄화(CMP)는 서브미크론 범위와 다단계 금속화를 생성하는 데 필수적인 공정이다. 동적 및 정적 제거 속도 측정뿐만 아니라 전기화학을 사용하는 Cu...
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집적 회로 (IC) 에 인터커넥트 층으로 적용하기 위해 무전해 도금 (ELD) 을 통해 금속 루테늄을 석출하는 것입니다. 나노 규모의 저항률 및 전자 이동 거동을 기반으로 한 ...
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체계적인 회수방법이 마련되어 있지 않아 그대로 폐기되고 있는 무전해 니켈도금 폐액중의 고가의 금속 자원인 니켈을 효율적으로 회수하여 제품화 하기 위한 기술로써, 알...
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붕소 불소의 기준이 2007 년 6 월 30 일 부로 불소 10 mg/l, 불소 8 mg/l 로 엄격해져, 전기도금업을 시작으로한 배출사업자는 수년내로 대응하지 않으면 않된다
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Zn-Ni-Fe 합금 전기도금의 분극거동에 대한 Fe 석출의 영향을 결정하기 위해 연구 하였다. 이를 위해 이원 Zn-Fe, Ni-Fe 및 Zn-Fe 합금 도금의 음극분극도 측정 하였다.