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반도체 도금공정에 있어서 트러블과 그 대책 - 무전해 UBM 형성에 있어서 트러블 사례와 그 대책 -
The Difficulties in Plating Process for Semiconductor and their Counter-Measures

등록 : 2015.07.05 ⋅ 27회 인용

출처 : 표면기술, 65권 7호 2014년, 일어 3 쪽

분류 : 해설

자료 : 있음(다운로드불가)

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기타 :

半導体へのめっき工程におけるトラブルとその対策 -無電解UBM形成におけるトラブル事例とその対策-

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자료요약
카테고리 : 무전해도금통합 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2015.07.05
시제품 및 양산과정에 있어서 발생된 불량사례의 하나와 그 대책을 상담자와 QnA로 소개
  • 수산화 스트론튬 욕에 열중하면 미크론 오더의 알루미늄 화성피막이 있다. 2차 처리로 1차 피막을 수산염 함유 알루미늄 이온의 포화용액에 침지하면 원주의 결정질 표면이 ...
  • 비정질 및 나노 결정질 Ni-W-P 합금 피막은 전착에 의해 제조하였다. 도금조에서 차아인산나트륨의 효과는 W 및 P 합금 함량을 결정하는데 중요하다. 약 0.15 mol/L 차아인...
  • 중금속 크롬은 외관이 미려하고 대기중에서 변색되지 않으며, 열, 산 및 알칼리에 내식성, 내열성이 강하고 도금이나 스텐인레스 원료로 이용되는 물질이다. 1- 1990(49), p...
  • 복합도금 ㆍ Composite Coatings 우리가 보통 말하는 합금도금은 [아연철합금도금|아연-철 합금도금], [아연니켈합금도금|아연-니켈 합금도금] 등과 같이 모두 금속물질의 ...
  • 각종 전기도그욕의 특성에 대하여 끝마무리면의 양불, 조작의 경제성, 액관리의 용이성 및 생태에 의한 영향을 특히 강조하여 설명 [亞鉛도금 - 現在의 技術과 將來의 動向]