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고전류밀도 황산아연 전기도금 공정과 조성
High current density zinc sulfate electrogalvanizing process and composition

등록 2008.09.02 ⋅ 59회 인용

출처 미국특허, 2002-0112966, 영어 6 쪽

분류 특허

자료 웹 조사자료

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자료요약
카테고리 : 아연/합금 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2022.02.13
고전류밀도 덴드라이트 형성을 감소시키고 산성 아연염으로부터 얻은 아연 피막의 고전류밀도 거칠기, 입자 크기 및 배향을 제어하기위한 고전류밀도 전기아연 도금공정 및 조성물이 제시된다.
  • 철강의 도장전처리로서의 인산염피막처리가, 일본시장의 양산라인에 채용된 시기는 소화28년경이다. 각종 수지도료가 급속히 발전한 소화30년에서 35년 굘려서, 각종린산염 ...
  • 인쇄회로 기판의 제조에서 무전해 구리도금은 후속 스루홀 전기도금을 위해 기판을 전도성으로 만드는 구리도금으로 전체기판을 금속화하는데 사용된다. 이 무전해도금 공정...
  • 메탄설폰산 주석과 전해질 및 전착물의 성능 특성. 욕 조성, 온도 및 첨가제의 영향에 대한 연구를 요약하였다. 단순한 산성 황산염과 메탄설폰산염 전해질에서 복잡한 혼합...
  • 무전해 PCB 도금 공정 수세액을 분리막으로 처리하여 투과수는 공업용수로 재사용하고 유가금속인 금(Au)을 회수하는 방법에 관하여 연구하였다. 역삼투 분리막 테스트 셀을...
  • 내마모성이 우수한 무전해 복합도금의 도금 방법, 피막특성, 적용례에 관하여 소개