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고전류밀도 황산아연 전기도금 공정과 조성
High current density zinc sulfate electrogalvanizing process and composition

등록 2008.09.02 ⋅ 51회 인용

출처 미국특허, 2002-0112966, 영어 6 쪽

분류 특허

자료 웹 조사자료

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자료요약
카테고리 : 아연/합금 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2022.02.13
고전류밀도 덴드라이트 형성을 감소시키고 산성 아연염으로부터 얻은 아연 피막의 고전류밀도 거칠기, 입자 크기 및 배향을 제어하기위한 고전류밀도 전기아연 도금공정 및 조성물이 제시된다.
  • 대부분의 금속은 공기, 물, 산, 알칼리, 염분에 의해 부식된다. 부식은 물리화학적 특성에 따라 화학적 부식과 전기화학적 부식의 두 가지 유형으로 나뉘워 진다. 화학적 부...
  • 알루미늄 합금에의 도금이 어려운 이유는, 전처리가 적합치 않으므로, 이를 해결하기 위한 실험
  • 금-코발트-인듐 합금도금 Gold-Cobalt-indium Alloy Plating 금-코발트, 금-인듐 등의 도금욕은 두꺼운 도금을 할수 없으나 금-코발트-인듐 합금 도금욕은 광택이 있는 두꺼...
  • 가용성 팔라듐염을 팔라듐량으로 환산해서 1~60g/ℓ와 설파민산 또는 그의 염을 0.1~300g/ℓ를 적어도 함유해서 되는 팔라듐 도금액에 있어서, 광택제를 실질적으로 함유하지 ...
  • 아연 -망간 -몰리브덴 Zn-Mn-Mo 합금을 구연산염욕에서 전착하고 전류밀도, 2.0~6.0 Adm-2, 온도, 20~35 ºC, pH, 2.0~2.15, 도금시간 20~50 분에서 구성 금속의 농도를 연구...