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고속 전착 크롬층
High performance electrodeposited chromium layers

등록 : 2009.06.11 ⋅ 26회 인용

출처 : 미국특허, 1989-4828656, 영어 5 쪽

분류 : 해설

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 크롬/합금 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2022.02.14
크롬산 및 40~100 g/ 의 설포 아세트산으로 구성되고 실질적으로 카복실산, 불화물, 요오드화물, 브로마이드 및 셀레늄 이온이 없는 크롬 도금욕이 기술된다.