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광택 아연석출의 산성 아연도금욕과 방법
Acid zinc plating baths and methods for electrodepositing bright zinc deposits

등록 2009.07.24 ⋅ 51회 인용

출처 미국특허, 1980-4229268, 영어 8 쪽

분류 특허

자료 웹 조사자료

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자료요약
카테고리 : 아연/합금 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2020.11.05
도금욕은 하나 이상의 방향족 카보닐 화합물, 특히 방향족 알데하이드 및 방향족 카복실산을 함유할수 있다. 이러한 설폰산의 방향족 설폰산 및 에틸렌 옥사이드 축합물도 도금욕에서 유용하다. CRU-PEG HS 1000 키실렌 설폰산소다 벤조익산 소다 Water 30 % 20 % 10 % 40 % CRU-PEG HS 2000 키실렌 설폰산소다 b-나프톨 반...
  • 가용성 폴리아크릴 아미드 중합체 및 이들의 N-치환 폴리아크릴 아미드 유도체 및 공중합체를 포함하는 광택제의 제어된 혼합물의 유효량을 함유하는 상기욕을 사용하는 [[...
  • 에멀젼 탈지 ^ Emulsion Degreasing 기름과 물이 혼합되도록 계면활성제를 첨가하여 유화시킨 액 (유화제) 으로 오물을 제거하는 방법이며, 10~20 리터 물 1 리터 용제 0.1~...
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  • 헤어라인는 명확한 정의가 있지 않지만 미세한 요철이있는 표면을 통칭하여 헤어라인라고하는 것 같다. 따라서 매트와 같은 극히 미세한 요철에서. 여기에는 엠보싱된 표면...