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고분해능 투과 전자현미경에 의한 Ni-P 도금막의 관찰
High resolution transmission electron microscopy of electrodeposited Ni-P alloys
등록
:
2008.09.23
⋅ 40회 인용
출처
:
표면기술
, 42권 1호 1991년, 일어 5 쪽
분류
:
해설
자료
:
있음(다운로드불가)
저자
:
Kenishi SHIMIZU
1)
Kenzo KOBAYASHI
2)
G.E. Thompson
3)
G.C. Wood
4)
기타
:
자료
:
분류 :
니켈-인
⋅
인함유량
⋅
목록
도금인의 소식지 표면처리세계
Real Web Magazine
무전해 구리도금욕 조성
자료요약
카테고리 :
니켈/합금
| 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2020.11.07
인의 함유량이 다른 Ni-P 도금막의 구조를, 초박절판법으로 제작한 Ni-P 도금막/소지 Cu 종단면절판의 고분해능 투과 전자현미경 관찰로, 인함유량의 증가에 따른 구조의 변화를 검토한 결과
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