로그인

검색

검색글 11053건
양극산화 피막의 응력
Stresses generated in anodic oxide films

등록 : 2008.08.08 ⋅ 47회 인용

출처 : 표면기술, 51권 4호 2000년, 일어 6 쪽

분류 : 해설

자료 : 있음(다운로드불가)

저자 :

기타 :

자료 :

  • 관련자료가 없는 경우 관련사이트 또는 Web에서 검색하십시요.

분류 :
자료요약
카테고리 : 양극산화 | 글입력 : 무대뽀 | 최종수정일 : 2020.12.06
양극산화 피막에서의 응력 요인은, 하지금속과 피막과의 몰 용적비가 다르고, 성막 성장에 있어서 이온의 이동, 고전장에 의한 전기왜곡, 피막의 수화 탈수등이 있다.
  • 인산 크로메이트 ^ Phosphate Chromate 인산크로메이트 처리는, 각종 소재의 도장 전처리, 6가크롬 용출을 허용하지 않는 소재의 전처리 등에 이용되며, 알루미늄에 많이 이...
  • POELE 를 첨가제로 사용한 황산산성 주석-비스무스 Sn-Bi 합금도금욕에서, 치밀하고 평골한 외관을 가진 Sn-Bi 합금피막의 석출과, 피막중 Sn 3 wt % Bi 도금피막을 만들기 ...
  • QVF® process plant and pipeline components manufactured from borosilicate glass 3.3 are widely used throughout the chemical and pharmaceu
  • 개선된 산성 3가크롬 전해질 및 전해질의 상업적 작동중에 일반적으로 점진적으로 증가하는 유해한 오염 금속 이온의 존재에 대한 이러한 전해질의 내성을 증가시키는 ...
  • 1. 금속층 준비방법 2. 양면 및 다층 PCB-s 3. 고밀도 상호연결