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프론계 대체화 세척기술의 현황 - 수세척과 폐수처리
The Currentn Status of CFC alternatives for cleaning - Cleaning with water and waste water treatment

등록 2010.05.31 ⋅ 45회 인용

출처 써킷테크노로지, 6권 3호 1991년, 일어 7 쪽

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 도금자료기타 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2020.12.15
프론은 경박단소의 대표적인 반도체부품, 대형 갈라 액정 디스플레이, 디스크 소재의 고밀도 메모리등, 하이테크 상품의 모든 제조공정의 정밀세척에 사용되고 있다.
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  • RONASTAN ™ EC-1은 광범위한 도금 범위에 걸쳐 매끄럽고 세밀한 도금을 생성하는 산성 주석도금 용액이다. RONASTAN EC-1 도금은 인쇄회로 기판제조에서 에칭 레지스트로 사...
  • 무전해구리도금액의 성질과 석출반응에 관하여 보고
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