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프론계 대체화 세척기술의 현황 - 수세척과 폐수처리
The Currentn Status of CFC alternatives for cleaning - Cleaning with water and waste water treatment

등록 2010.05.31 ⋅ 40회 인용

출처 써킷테크노로지, 6권 3호 1991년, 일어 7 쪽

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 도금자료기타 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2020.12.15
프론은 경박단소의 대표적인 반도체부품, 대형 갈라 액정 디스플레이, 디스크 소재의 고밀도 메모리등, 하이테크 상품의 모든 제조공정의 정밀세척에 사용되고 있다.
  • 구리-인듐-세렌 Cu In Se2 (CIS) 박막은 수용액에서 펄스도금 전착을 사용하여 몰리브덴 소재를 준비하였다. 공동도금에 가장 적합한 펄스전위 범위는 선형전위 스캔곡선에...
  • 아토나이켐 2800은 균일하고, 경도가 높고, 백색이며, 광택이 있는 니켈-인 합금의 무전해니켈 도금을 얻을 수 있도록 특별히 개발된 프로세스이다. 아토나이켐 2800은 알루...
  • 무전해 니켈-붕소 Ni-B 도금은 중붕소산 욕으로 부터 제조되었다. 무전해 Ni-B 도금의 구조적 측면을 연구하고 경도 및 내마모성을 평가하였다. 무전해도금 경로에 의한 Ni-...
  • KLP1000은 욕의 안정성이 뛰어난 초저인 타입의 중성 무전해니켈 도금 욕입니다. 또한 저응력, 낮은 전기 저항과 뛰어난 납땜성을 갖추고 있기 때문에 여러가지 용도로 사용...
  • 무전해니켈도금인쇄회로 기판 (PCB) 제조에 사용되는 표준 무전해 니켈 (ENIG) 표면처리이다. ENIG 표면처리에서 무전해 니켈합금은 작동회로와 보호 금합금...