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공업계에 있어서 에칭 기술의 조망
Recent development in etching technology
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분류
에칭액 ⋅
자료요약
카테고리 : 엣칭/부식 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2014.11.17
에칭기술은 그 목적에 따라 여러가지 처리조건과 방법이 이용되고 있다. 예로부터 에칭에 대하여, 포토에칭과 드라이에칭등의 기술이 급속히 발전되었으며, 이들 기술을 조망
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질산아연과 질산셀륨을 함유한 수용액에서, 전기화학적으로 은 Ag 막 위에 아연-셀륨-산소 Zn-Ce-O 막을 형성하여, 수용액중의 Ce 농도에 따라 Zn-Ce-O 막의 Ce 함유량, 결...
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전착 응력 측정 ^ Strip Electrodeposition Stress Meter 전착응력은 도금과 같은 전기화학적 공정 중에 발생하는 응력이다. 전착에 따라 도금이 두꺼워지면, 소지 금속층의...
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염화나트륨 NaCl, 염소산소다 NaClO4 및 염소산 HClO4 용액의 구리 Cu 부식에 대한 벤조트리아졸 (BTA) 의 억제 효과 및 Cu-NaCl-BTA 시스템의 용량에서 얻은 침지 테스트와...
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아연입자의 접촉을 이용한 구연산주석(ii) 착체욕에서의 무전해주석도금에 관하여, 도금조건을 만들고, 피막물성 및 석출기구를 검토
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Fe-Ni 합금계 인바 합금에 관하여 그 특징을 설명하고, 도금/전해법에 의한 인바 Fe-Ni 제작에 관하여 소개