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공업계에 있어서 에칭 기술의 조망
Recent development in etching technology
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- 분류 : 에칭액 ⋅
자료요약
카테고리 : 엣칭/부식 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2014.11.17
에칭기술은 그 목적에 따라 여러가지 처리조건과 방법이 이용되고 있다. 예로부터 에칭에 대하여, 포토에칭과 드라이에칭등의 기술이 급속히 발전되었으며, 이들 기술을 조망
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이 논문은 관련 문헌중 일부를 요약하고 저항기술에서 무전해도금의 일부 사용을 설명하여 특정 시점에 고려된 이유와 일부경우 문제에 대한 성공적인 답변을 제공한 방법을...
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산성 염화아연 도금광택제 ZBA 5310 InnoTive ZBA 5310 은 산성 염화암모늄 아연도금 광택제로 바렐 및 라크에 모두 사용 가능 합니다. 광택성과 연성이 우수하며, 캐스팅 ...
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환원제로 글리옥실산, 킬레이트 제로 Na2 EDTA, 첨가제로 K4Fe(CN)6 및 2,2'-dipyridyl 을 사용한 무전해구리 도금을 연구하였다. 구리환원 및 글리옥실산 산화의 거동에 대...
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100 ℃ 근처의 온도에서 다결정 CuInxSy 필름의 전착에 초점을 맞추고, 몇가지 유기용매를 조사하였다. 가장 좋은 결과는 프로필렌 탄산염을 도금액에 혼합하고 에틸렌글리콜...
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알칼리욕에서 도금되는 아연-철 합금도금과 아연-니켈 합금도금의 성능을 아연도금과 비교하였고, 성능과 현황에 관하여 설명