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고속도금에 대응하는 헐셀의 특성
Hull Cell for high speed plating

등록 : 2008.08.25 ⋅ 47회 인용

출처 : 표면기술, 50권 5호 1999년, 일어 2 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

저자 :

Wataru YAMAMOTO1) Tuguo IMABAYASHI2) Teruo OUKAWADO3) Tomoyoshi YASUZAWA4) Ihoe SAITO 5) Kazuo TAMURA 6)

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자료요약
카테고리 : 시험분석 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2016.04.18
하나의 시험판으로 첨가제의 과부족, 불순물의 유무등, 욕조성의 변화와 음극전류밀도의 분포 연구등을 보고