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표면처리기술문헌 : 습식표면처리 연구문헌자료

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고속도금에 대응하는 헐셀의 특성
Hull Cell for high speed plating

등록 2008.08.25 ⋅ 50회 인용

출처 표면기술, 50권 5호 1999년, 일어 2 쪽

분류 연구

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저자

Wataru YAMAMOTO1) Tuguo IMABAYASHI2) Teruo OUKAWADO3) Tomoyoshi YASUZAWA4) Ihoe SAITO 5) Kazuo TAMURA 6)

기타

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자료요약
카테고리 : 시험분석 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2016.04.18
하나의 시험판으로 첨가제의 과부족, 불순물의 유무등, 욕조성의 변화와 음극전류밀도의 분포 연구등을 보고
  • Fischer는 고정밀 측정 장비, 애플리케이션 컨설팅 및 포괄적인 서비스로 감동을 줍니다. 우리에게 그들은 코팅 두께를 측정하는 영구적인 파트너입니다.
  • 수용성 도금욕 및 침지도금 방법은 도금속도를 높이고 더 좋은 밀착성을 위한 두꺼운 피막을 연구하였다. 이는 리터당 23 g 의 염화주석 SnCl2 • 2H2O 의 침지주석 도금욕과...
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  • 새로운 팔라듐-니켈 합금도금액은 높은 전류밀도에서 우수한 광택의 균일한 전착막을 제공한다. 팔라듐-니켈 합금 도금액은 수용성 팔라듐 염, 수용성 니켈염, 암모니아, 암...