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표면처리기술문헌 : 습식표면처리 연구문헌자료

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전류밀도와 전해액의 인산농도가 Ti 양극 산화 피막에 미치는 영향
Effects of Current Density and Phosphoric acid concentration on Anodix Oxide film of titanium

등록 2009.01.09 ⋅ 50회 인용

출처 대한금속재료학지, 46권 6호 2008, 한글 7 쪽

분류 연구

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저자

김계성1) 정원섭2) 신헌철3) 최영선4) 조영래5)

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자료요약
카테고리 : 양극산화 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2016.04.02
치과용 임플란트로 사용할 목적으로 Ti를 양극산화시킬 때 전해액을 구성하는 인산의 농도와 전류밀도를 공정변수로 하여, 상기 공정변수가 Ti산화막의 표면상태, 결정구조 및 화학성분에 미치는 영향에 대해 연구
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  • 1990년에서 현재까지의 전자기기에 관하여, 그 실장기술과 기능진화와 그 필요 표면처리기술에 관하여 설명
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