로그인

검색

검색글 11135건
인산염피막의 형성 - 반응속도론적 취급을 중심으로

등록 2010.01.04 ⋅ 51회 인용

출처 금속표면기술, 20권 5호 1969년, 일어 4 쪽

분류 해설

자료 있음(다운로드불가)

저자

기타

リン酸塩皮膜の形成 - 反応速度論的取扱いを中心として-

자료

  • 관련자료가 없는 경우 관련사이트 또는 Web에서 검색하십시요.

분류
자료요약
카테고리 : 화성피막 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2014.08.09
인산염피막화성이 전기화학적과정을 취함을 나타내며, 반응은 캐소드부와 그 근접에사 일어나는 도보 화학반응도 있다.
  • 알루미늄 표면에 생성하는 전형적인 산화물피막의 구조와 성질에 관하여 설명
  • 알루미늄과 기타 비금속에 직접 크롬을 도금을 하는 공정으로,알루미늄 이외의 비금속에 적용 할 수 있지만, 알루미늄에 직접 크롬을 도금하는 것은 매우 까다로운 공정을 ...
  • 구리 배선 공정은 플라즈마 식각시 발생하는 부산물의 제거가 어려운 특성이 있어, 기존의 etch-back 공정대신 층간 절연막을 먼저 형성한 후 금속이 들어갈 자리를 사진 식...
  • 무전해 니켈도금을 안정적으로 연속도금할 필요가 있는, 니켈염 환원제 착화제 및 촉진제를 포함 무전해 니켈도금욕 조성물이다. 상기 촉진제는 상기 조성물의 석출 속도를 ...
  • 경단박소 전자부품의 소형화, 고밀도화에 따라, 고신뢰성, 고기능화가 요구되는 에칭장치에 관한 소개