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반도체와 전기화학 1/2
Cu electrodeposition for semiconductor interconnection

등록 : 2014.03.20 ⋅ 19회 인용

출처 : CHERIC, , 한글 5 쪽

분류 : 해설

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 도금자료기타 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2022.02.16
구리 배선 공정은 플라즈마 식각시 발생하는 부산물의 제거가 어려운 특성이 있어, 기존의 etch-back 공정대신 층간 절연막을 먼저 형성한 후 금속이 들어갈 자리를 사진 식각 공정 (photo-lithography)을 통해 형성 하고 후속 전해도금을 이용한 구리막의 채움으로 진행된다. 이러한 공정은 단순히 단차 피복율(step covera...
  • 과산화수소 처리 ^ Hydrogen Feroxide Treatment 황산구리 도금욕 (기타 도금액의 [과산화수소] 처리도 동일한 과정을 거친다.) 대부분의 모든 전기도금욕은 주기적으로 유...
  • 박막 도금방법에는 여러 가지가 있다. 이 연구는 전기화학적 방법, 특히 무전해 도금에 중점을 두었으며, 널리 연구되고 사용되어 고르지 않은 표면을 피복하는 능력, 높은 ...
  • AHSS 의 대표적 합금원소인 Mn 을 첨가한 합금강을 제조하여, 소둔열처리한 후 Mn 의 선택적 표면 산화물을 정밀 조사하였다. 또한 용융도금 침지시간에 따른 아연 도금층을...
  • 란시 시스템의 한종류로, 크롬산함유 폐수(크롬도금, 크로메이트, 에칭등)을 간단히 무해화하는 방법 [Lancy's Chemical Rinse CR-II Process]
  • 아연과 시안이온을 대상으로 역삼투막을 이용하여 분리 제거한 후 투과수는 도금공정의 세척수 및 재생수로, 농축된 금속이온은 도금조로 순환 및 회수하여 도금페수가 외부...