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표면처리기술문헌 : 습식표면처리 연구문헌자료

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알루미늄 광택 표면처리에 사용되는 인산의 회수
Recovery of Phosphoric acid used in the Bright dip finishing of Aluminium

등록 : 2008.09.12 ⋅ 51회 인용

출처 : eco-tech, na, 영어 8 쪽

분류 : 해설, 기타

자료 : 있음(다운로드불가)

저자 :

기타 :

AAC Anodizing Workshop, Atlanta 1995.

자료 :

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분류 :
⋅ ⋅ ⋅
자료요약
카테고리 : 회수재생 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2020.12.28
R5 공정은 농축된 (65~80 % w/w) 인산과 소량의 질산, 인산이암모늄 및 구리를 결합하여 황산 양극산화 전에 알루미늄 부품을 화학적으로 연마한다. 부품 표면에서 금속을 제거하면 인산알루미늄이 산에 축적되지만 수준은 일반적으로 30~45 g/L (알루미늄) 범위에서 안정화된다. 농도가 높을수록 전해식각 또는 수조에서 인...
  • 화학도금법에 의한 Ni-P-SiC계 및 Ni-P-TiC계 복합도금을 합성하고, 복합도금의 경도에 있어서 내마모성에 대한 분산입자의 종류, 입도, 공석량의 효과, 열처리변화에 관하...
  • 안녕하세요. 현재 반도체에 무전해 구리 도금을 이용한 연구를 진행하고 있습니다. 도금 특성을 분석을 위해 구리 비저항을 측정을 하려고 합니다. Sheet R과 두께로 비저항...
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  • 디아릴아민 첨가제, 촉진제, 억제제와 복수의 첨가제를 첨가한 경우를 비교하고, 전류밀도를 올릴때의 도금시간 단축, 한층 도금막 표면에 있어서 광택영역의 확대를 목적으...
  • 무전해도금(Electroless Plating) 공정에 사용되고 있는 팔라듐촉매 용액의 담지 특성 및 효율이 향상될 수 있는 팔라듐 촉매 용액의 제조방법, 보다 상세하게는 팔...