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무전해 메탄설폰산 구리욕에 대한 티오 유도체의 효과
Effect of Thio Derivatives on Electroless Copper Methanesulphonate Bath

등록 2021.12.07 ⋅ 53회 인용

출처 ChemTech Research, 8권 1호 2015년, 영어 9 쪽

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 구리/Cu | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2022.05.28
환경 문제로 인해 무전해 구리도금을 위한 시안화물 및 EDTA 가 없는 메탄설폰산욕의 개발에 관심이 일고 있다. 자일리톨과 같은 폴리하이드록실을 착화제로, 환원제로 파라 포름알데히드와 같은 욕에서 EDTA 대신에 사용될 수 있다. 티오우레아, N-메틸티오우레아, 펜틸티오우레아 및 디페닐티오우레아와 같은 안정제의 효...
  • Si 반도체 디바이스의 다층배선형서에, 습식법에 의한 구리도금기술의 적용이 주목되고 있다. LSI 구리 배선형성을 위한 대로운 대응 프로세스이 설계 및 표면처리공업의 파...
  • 화학니켈 도금공정에서 배출되는 노화액에 대하여, 과산화납-니탄을 이용한 전해에 의한 니켈을 회수, COD 원인물지을 화학적으로 분해제거하며, 킬레이트수지를 이용한...
  • Tri-Chrome Smoke 트리-크롬 스모크, 3가 크롬도금 흑색 프로세스
  • 본 발명은 내부식성 및 도장 밀착 특성을 향상시키기 위해 금속표면을 처리하는 방법에 관한 것으로, 특히 알루미늄 및 알루미늄 합금용 3가크롬 피막 및 양극피막 처리...
  • 바렐연마 ㆍ Barrel Polishing ^ tumbling / barrelling 물품을 물통형 용기 (바렐ㆍBarrel) 에 연마제와 같이 넣어서, 용기를 회전시킴으로서 물품끼리 마찰을 주어 표면을...