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아황산금 착화에 의한 무전해 금도금
Electroless Gold Plating by Disulfiteaurate Complex

등록 : 2021.12.18 ⋅ 37회 인용

출처 : Plating and Finishing, Apr 1995, 영어 4 쪽

분류 : 연구

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자료요약
카테고리 : 금/Au | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2024.10.23
아황산금 착화를 사용한 무전해 금 도금은 착화기 불안정하고 쉽게 분해되기 때문에 Na2 를 사용하여 욕의 안정성을 향상시켰다. 실험에 SO3, Na2O3S2 와 착화제로서 니트릴로트리아세트산 금(I) 이온의 불균등화 반응은 쿠페론 cupferron, 비피리딘 bipyridine 또는 시안화니켈 Ni(CN)2 의 첨가에 의해 억제되었다. 환원제...
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  • Nikal BP RTU electrolytic nickel produces matte to semi bright, low-porosity nickel deposits for wafer plating. Nikal BP is characterized by its ability to produ...
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  • 황산크롬 · Chromium Sulfate 크롬의 2가ㆍ3가 화합물로 황산제일크롬 CrSO4 와 [황산제이크롬] Cr2(SO4)3 이 있다. 제2크롬은 7수ㆍ5수ㆍ1수 화합물이 있으며, 무수물은 없...
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