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미세결정-비정질혼합 금 Au 니켈합금 도금막의 석출조건과 물성
Electrodeposition and properties of Gold-Nickel alloy film with a Nanocrystalline-Amorphous Mixed Structure
저자 :
Kzutaka SENDA1) Ryota IWAI2) Tomoaki TOKUHISHA3) Masaru KATO4) Noryyuki YAMACHIKA5) Yutaka OKINAKA6) Tetsuya OSAKA7)
기타 :
微細結晶-非晶質混在金・ニッケル合金めっき膜の析出条件と物性
자료 :
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자료요약
카테고리 : 니켈/합금 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2021.01.03
미세결정과 비정질이 나노레벨 혼재된 미세결정-비정질 혼합구조 (도는 아몰퍼스 나노결정) 에 착안하여, 금 Au 의 전기접점 재료로서 특성을 유지하고 기계적 강도가 우수한 Au 합금도금 막의 개발 결과 보고
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2 액법 활성화 전처리에 따라, 절연성 소재위에 형성된, 촉매핵의 직접관찰을 시험
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도금조건 및 도금욕 조성을 여러가지로 변화하여, 글라스 기판상에 있어서 무전해니켈도금의 초기 석출과정의 반응유도기, 석출속도 및 석출형태에 관한 검토와 보고서
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시안화구리도금, 니켈도금, 예비 산성 구리도금, 구리 침지도금, 피로인산 도금, 하이드록실리덴 디포스폰산 HEDP (1-hydroxylidene -1,1-diphosphonic acid) 욕 구리도...
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황산 구리(동) 도금용 첨가제 ^ Copper plating Intermediate [황산구리도금|황산 구리(동) 도금] 액의 주요성분 황산구리와 황산 그리고 염소 (Cl-) 포리옥시에칠렌계 또는...