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무전해 니켈-인 석출에 있어서 인의 분포
Distribution of Phosphorus in Electroless Nickel-phosphorus Deposits

등록 2023.12.21 ⋅ 64회 인용

출처 electrochemistry, 70권 7호 2002년, 영어 4 쪽

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 니켈/Ni | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2023.12.22
초기 단계 도금 조건의 정상 상태 모두에서 전기 니켈 피막의 인 분포와 함량을 설명하였다. EPMA GDOES 및 AES 측정 결과에서 초기 단계에서 석출된 피막의 인 함량이 정상 작업 상태 석출보다 더 높은 값을 나타내는 것으로 나타냈다. 피막 내 인 함량이 가장 높은 것은 시험욕의 복합화제 중 구연산 욕이었다. AES 스...
  • 무전해구리 도금용액 및 그 사용방법을 설명하였다. 대표적인 무전해구리 도금용액은 차아인산염 이온의 공급원인 생성제와 구리도금 속도를 가속화 하는 하나 이상의 가속...
  • 신규 히트싱크 재료로서 은이온을 함유한 양극산화 알루미늄재에 착안하여, 그 방열성능을 평가한 실험
  • 팔라듐을 첨가한 무전해 니켈-팔라듐-인 Ni-Pd-P 합금도금의 접점재료로서의 적용성에 관하여 검토
  • 다름이 아니라 니켈 전주도금에 대해서 문의드립니다. 현재 1mm (1000um) 도금 할 예정입니다. 1. 니켈 설파민산욕의 Make up 비율 (설파민산 니켈 , 붕산 , 염화니켈 의 각...
  • 스테인리스 특성 ^ Stainless Steel Properties 강종 특성 410/MSS (12/13 wt% Cr 계) 430/FSS (18 wt% Cr 계) 304·316/ASS (18Cr-8Ni 계) 631 (17Cr-7Ni 계) 자성 있음 있...