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크롬도금의 헐셀시험에 있어서 전위및 전류분포의 측정
Measurement of Potential and current deistributions in HUll Cel test of chromium plating bath

등록 2010.01.07 ⋅ 54회 인용

출처 금속표면기술, 30권 1호 1979년, 일어 5 쪽

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 크롬/합금 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2014.08.07
헐셀판 표면의 전위와 전류밀도를 측정하여 표면형태와의 관계에 관하여 조사

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