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에칭 기술에 의한 미세 가공
Microstructures Fabricated by Anisotropic Wet Etching Technologies

등록 2025.10.06 ⋅ 50회 인용

출처 표면기술, 76권 4호 2025년, 일본어 5 쪽

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기타

エッチング技術による微細加工

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자료요약
카테고리 : 엣칭/부식 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2025.10.17
Si의 결정 구조를 이용하여 Si 기판을 에칭함으로써 얻어지는 형상은 결정 구조에 의존하고, 드라이 에칭에서는 실현할 수 없는 다면체 형상이 된다. 이하, 결정 이방성 에칭 기술에 대하여 상세히 설명한다.
  • 절연체에 금속막을 도금하기 위한 무전해공정은 수년동안 알려져 왔습니다. 이 기술의 다양한 측면이 저항기술이 적용되어 기존 저항기의 성능을 향상시키고 새로운 특성을 ...
  • 2원 아연-니켈-철 Zn-Ni-Fe 및 3원 Zn-Ni-Fe 합금도금은 염화욕에서 전기도금하여 연강에서 얻었다. 미세 경도, 결정구조 및 입자크기에 대해 Zn-Ni 및 Zn-Ni-Fe 합금을 명...
  • 광택니켈 도금조에서 석출된 니켈의 응력은 Brenner 및 Senderoff 유형 응력측정기로 측정하였다. 1종 광택제는 압축응력 2종 광택제는 인장응력 소량의 2종 광택제를 니켈...
  • 비시안 알칼리 아연-니켈 합금도금으로 Zn/Ni 12~15 % 의 고내식성 반광택 미세결정의 합금도금이 가능하다.
  • 무전해니켈의 응용분야는 경도, 균일성 및 내식성과 같은 다양한 물리적 특성과 비전도성 표면을 도금할 수 있어 많은 엔지니어링 응용 분야에서 사용된다. 현재 무전해...