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프탈산욕에서 텔루륨의 전착
ELECTRODEPOSITION OF TELLURIUM FROM PHTHALIC ACID BATH
등록 : 2012.11.10 ⋅ 11회 인용
출처 : ADIOANAL.NUCL.CHEM.,LETTERS, 118권 1호 1987년, 영어 14 쪽
분류 : 연구
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자료요약
카테고리 : 전기도금기타 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2022.02.14
제어된 pH 에서 프탈산 및 무기 물질의 존재하에 금속염 용액에서 텔루륨의 전착을 조사하였다. 전류 밀도는 0.28~11.34 mA cm -2 범위였다. 음극전류 효율 백분율은 상대적으로 낮았으며 수조에서 텔루리온 이온 농도가 증가함에 따라 증가했다. 도금된 금속의 순도는 99 % 보다 낮았다. X선 회절 분석은 도금이 육각형 구...
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HEDP 구리도금의 밀도에 대한 계면활성제의 효과를 연구하였다. 구리 전착의 전기 화학적 거동을 선형 전위스캐닝 방법으로 연구하고, 도금액과 소재 사이의 접촉각을 시험 ...
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C&Z Coat C&Zcoat 는 "Chromating & Zinc Coating" 을 말하며, 금속가공의 고도화, 다양화를 요구하는 고품위 무공해형 고내식성 표면처리다. 아연ㆍ철 합금피막을 가진 특...
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교류 임피던스법에 의한 표면피막의 전기적 특성을 조사하고, 피막의 화학구조와의 관련성에 관하여 검토
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EDTA ^ Ethylene Diamine Tetra Acetic Acid (HOCOCH2)2NCH2CH2N(CH2COOH)2 〔C10H16N2O8 = 292.24 g/㏖〕 CAS : 60-00-4 EDTA 는 중요 착화제의 하나로 금속이온과 결합하...
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가장 기본적인 연구과제와 양극화 산화피막의 Morphology에 관한 내용이다. [한성호 / 한국표면공학회지, 21권, 3호, 130-141쪽 ,1988년]