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프탈산욕에서 텔루륨의 전착
ELECTRODEPOSITION OF TELLURIUM FROM PHTHALIC ACID BATH
등록 : 2012.11.10 ⋅ 14회 인용
출처 : ADIOANAL.NUCL.CHEM.,LETTERS, 118권 1호 1987년, 영어 14 쪽
분류 : 연구
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자료요약
카테고리 : 전기도금기타 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2022.02.14
제어된 pH 에서 프탈산 및 무기 물질의 존재하에 금속염 용액에서 텔루륨의 전착을 조사하였다. 전류 밀도는 0.28~11.34 mA cm -2 범위였다. 음극전류 효율 백분율은 상대적으로 낮았으며 수조에서 텔루리온 이온 농도가 증가함에 따라 증가했다. 도금된 금속의 순도는 99 % 보다 낮았다. X선 회절 분석은 도금이 육각형 구...
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금 Au 합금도금욕 조성에 대한 체계적인 연구는 실험설계를 이용하여 수행되었다. 부분요인 설계방법은 전착된 금 도금의 음영에 대한 전기도금용액에서 은, 팔라듐, 니켈 ...
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일렉트로닉스 분야에 사용되는 미소부품은 배럴내의 도금약 조성의 변동, 평균전류 밀도의 설계와 도금시간등, 배럴도금 설비에 기인한 작업성의 제약과 관리가 중요한 요인...
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코발트산화물의 아노드 전착과 그 색에 관한검토
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기질에 밝은 아연 침착 물의 전착을위한 수성 산성 도금 조가 개시되며 아연 이온, 암모늄 이온 및 하나 이상의 방향족 설 폰산 또는 염을 포함한다