도금 첨가제 제조 원료약품 - 치환구리막의 생성기구에 관하여

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치환구리막의 생성기구에 관하여

The mechanism of the formation of galvanically substrated Cu-Films

등록 : 2008.08.03 ⋅ 36회 인용

출처 : 금속표면기술, 18권 2호 1967년, 일본어 9 페이지

분류 : 해설

자료 : 있음(다운로드불가)

저자 :

Yoshimi TANABE¹⁾ Kazuhisa ISHIBASHI²⁾

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자료요약

카테고리 : 구리/Cu | 글입력 : 무대뽀 | 최종수정일 : 2014.09.01

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