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치환구리막의 생성기구에 관하여
The mechanism of the formation of galvanically substrated Cu-Films

등록 : 2008.08.03 ⋅ 36회 인용

출처 : 금속표면기술, 18권 2호 1967년, 일본어 9 페이지

분류 : 해설

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 구리/Cu | 글입력 : 무대뽀 | 최종수정일 : 2014.09.01
체심입방형 금속상의 화학적 치환으로 석출성장된 면심입방형 금속박에 관하여, 기질과의 결정학적 관련 및 생성기구 및 구조를 조사하기 위하겨, 철면산에 석출성장된 치환구리막에 관한 연구
  • 이 프로젝트는 반도체 응용 분야의 VLSI 기능을 위해 특허받은 패러다익 공정을 사용하여 최소한의 오버플레이트로 구리를 증착할 수 있는 가능성을 입증했습니다. Copper M...
  • 무전해 니켈-텅스텐-인 합금도금 ^ electroless Ni-W-P alloy Plating 무전해 Ni-W-P 합금피막은 내식성ㆍ내마모성ㆍ내구성을 향상시키고 질산 이외의 염산·황산의 산성 환...
  • 상업화된 Fe-Ni 합급은 크게 두 가지로 나눌 수 있다. Ni 함량이 약 79 w% 인 고 Ni 합금(high-nickel alloy)은 초투자율 과 최대투 자율이 높고 이력손실 (hysteresis loss...
  • 염화니켈욕에서 전착시 첨가제의 억제제 작용에 대한 연구를 진행하었으며, 니켈 표면에 있는 첨가제의 흡착현상, 수소 방전시 이중층의 용량 및 분극전위를 조사했다. 0.1 ...
  • 철강소재에 전기도금된 광택주석 도금의 내식성 및 다공성은 염수분무시험과 개질 페리시아나이드 시험으로 평가 되었으며 그 결과를 다른 주석도금과 비교 하였다. 전착도...