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치환구리막의 생성기구에 관하여
The mechanism of the formation of galvanically substrated Cu-Films
자료
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분류
치환구리 ⋅
자료요약
카테고리 : 구리/Cu | 글입력 : 무대뽀 | 최종수정일 : 2014.09.01
체심입방형 금속상의 화학적 치환으로 석출성장된 면심입방형 금속박에 관하여, 기질과의 결정학적 관련 및 생성기구 및 구조를 조사하기 위하겨, 철면산에 석출성장된 치환구리막에 관한 연구
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본 발명은 적어도 하나의 수용성 금화합물, 금 Au 완성제, 수용성을 포함하는 비시안화물 유형 금-주석 합금도금욕을 제공한다. 주석화합물 및 (iv) 양이온성 고분자 계면활...
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크롬‐탄화크롬 Cr-CrC 합금도금층을 제조하기 위한 도금액의 개발 및 최적 도금공정 개발을 위한 기초연구로서 크롬산에 각종 유기산을 첨가하여 도금효율, 물성등을 조사
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전기화학기초
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Engineering (functional) applications Hardness, wear resistance, & corrosion protection for substrate Electrodeposited Hard Chrome (EHC) Ni, Ni-P, Co-P, metal - ...