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무전해 석출법에 의한 고비저항 NiP 피막의 제작과 그 특성
Preparation and it's properties of high resistivity NiP films by means of electroless deposition

등록 2008.08.11 ⋅ 54회 인용

출처 표면기술, 47권 9호 1996년, 일어 5 쪽

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자료요약
카테고리 : 니켈/Ni | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2015.01.14
고비저항 무전해 Ni-P 도금막의 제작조건 및 피막특성에 관하여 보고

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