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무전해 석출법에 의한 고비저항 NiP 피막의 제작과 그 특성
Preparation and it's properties of high resistivity NiP films by means of electroless deposition

등록 2008.08.11 ⋅ 47회 인용

출처 표면기술, 47권 9호 1996년, 일어 5 쪽

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자료요약
카테고리 : 니켈/Ni | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2015.01.14
고비저항 무전해 Ni-P 도금막의 제작조건 및 피막특성에 관하여 보고
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  • 향후의 재료 개발에 맞지 않으면 안되고, 기본적으로는 플라스틱에게 순풍이 불고 있다고 생각 되지만, 동시에 회수 및 재활용이라는 과제를 해결하지 않으면 안되는 곳에 ...
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