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습식 표면처리 개발을 위한 연구/문헌 자료실 (로그인 필요) 이용을 환영합니다. 검색(로그인 필요)은 아래 내용을 참조하여 주시기 바랍니다. 외뢰어는 기본적으로 한글 표준 발음 (포리머 → 폴리머 / 알카리 → 알칼리)을 사용하였습니다. 많이 사용되는 용어는 일반관 용어 (Nickel → 니켈) / (신주 /...
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1990년에서 현재까지의 전자기기에 관하여, 그 실장기술과 기능진화와 그 필요 표면처리기술에 관하여 설명
전기도금통합
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표면기술 · 68권 2호 2017년 · Kazunori KATO ·
참조 12회
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습식 에칭, 특히 공업상 중요한 가공 방법인 포토에칭에 관하여, 그 이론과 최근의 제품 동향, 기술동향에 관하여 해설
엣칭/부식
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실무표면기술 · 35권 11호 1988년 · Kazunori KATO ·
참조 35회
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인쇄제판 및 예술분야에서는 에로부터 습식에칭은 포토레지스터와 아트웍의 제판기술로 발전하여, 반도체산업과 전자 전기기계의 부품제조등에 없어서는 않될 중요기술로 발전하였다. 습식에칭 특히 포토에칭의 기초와 프로세스에 관하여 간단한 설명과 취근의 응용제품에 관하여 그 특징을 설명
엣칭/부식
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표면기술 · 49권 10호 1998년 · Kazunori KATO ·
참조 49회
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반도체의 프라스틱 패키지용 리드프레임의 패키지 내측부의 도금에 관하여, 형태 및 방법등에 관한 설명
응용도금
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표면기술 · 44권 12호 1993년 · Kazunori KATO ·
참조 35회
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