부도체 및 도체상에 있어서 무전해 Ni도금의 초기석출형태
비전도체와 도체에 대한 무전해 니켈 초기 석출 및 후속 정상 상태 공정을 조사 하였다. 초기 니켈 석출 반응중 석출된 피막의 인 함량이 후속 정상 상태로 석출된 피막보다 높았음을 나타냈다. 착화제로 아세트산, 프로피온산, 숙신산, 말산, 시트르산, 글리신 및 아스파르트산을 함유하는 도금욕은 석...
니켈/Ni
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표면기술 · 53권 6호 2002년 · Katsuhiko TASHIRO ·
Seiji YAMAMOTO
외 ..
참조 43회
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