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검색글 Shing WATANABE 4건
전기 구리도금에 있어서 첨가제의 필링성능의 전석시간 의존성
Plating time dependence of filling ability with additives by copper electroplating

등록 2008.08.22 ⋅ 73회 인용

출처 일렉트로닉스학회지, 7권 3호 2004년, 일본어 1 쪽

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 구리/Cu | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2022.07.29
8~10%의 중인 무전해니켈도금액을 개발하여 이 무전해 도금욕에서 도금욕에 함유된 환원제와 니켈 금속염등의 영향에 따른 도금속도와 도금표면의 특성에 관해 연구
  • 분산도금을 위한 기본욕 조성으로 염화크롬 붕산과 글리신, 설파민산 암모늄 등의 각종 유기물을 첨가한 것을 사용하고, 욕온도 30~60 ℃, 전류밀도 10~60 A/dm2 의 범위에서...
  • 염산 및 기타 산의 매우 빠른 반응 속도는 여러 응용 분야에서 효과를 제한할 수 있다. HCl 을 포함한 모든 기존 산과 유기산은 유정 또는 소재에서 산에 민감한 물질과 접...
  • 은판을 소재로 금도금한 제품이 변색 도는 부식되어 하지 니켈도금층의 니켈 산화물이 발생하는 등 명예로서 받은 영구보존해야할 훈장이 부식되는 문제점을 설명 염희택/ ...
  • 3가크롬을 주성분으로하는 화성피막처리가 도입되어 시장에 정착하기 시작했다. 그러나 이 대체 처리액은 사용에 따라 철 등의 금속불순물이 축적되어가는 것으로 아연...
  • 파형인자가 팔라듐-니켈 Pd-Ni 합금도금의 조성 및 조직에 미치는 영향을 조사 검토하고 DC 전해조건의 결과와 비교함