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무전해 은 Ag 과 금 Au 도금의 도금비율 개선
Plating rate improvement for electroless silver and gold plating

등록 2014.05.30 ⋅ 39회 인용

출처 미국특허, 1994-5318621, 영어 4 쪽

분류 특허

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자료요약
카테고리 : 금/Au | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2021.01.03
비시안화물 금속 착화물, 티오황산, 아황산염 및 적어도 하나의 아미노산을 포함하는 무전해 은 Ag 또는 금 Au 도금 용액을 연구하였다. 아미노산이 포함된 이러한 무전해도금 용액은 아미노산이 없는 동일한 용액에 비해 도금속도가 빨라진다.
  • EMI
    전자파 ^ ElectroMagnetic Interference EMC (ElectroMagnetic Compatibility : 전자환경 적합성) 는 EMI 와 EMS 의 두가지를 합친 상위 개념이며, 우리가 흔히 얘기하는 EM...
  • 피로인산염욕을 사용한 은-주석 Ag-Sn 합금층의 조성, 균일전착성 및 조직특성에 미치는 파형 전류 전해조건의 영향에 대하여 연구
  • 전해구리 도금방법이 제공되며, 여기서 구리는 소재에 전해도금 되고 전해 구리도금에 공급되는 전해 구리도금 용액은 불용성 양극을 사용하여 더미 전기분해된다. 위에서 ...
  • 대량 생산이 가능한 고 전류밀도 영역의 염화물욕 아연도금 용액에서 첨가제 및 도금 조건에 따른 전착 특성과 결정구조에 대한 고찰을 통하여 이것들의 상호 연관성을 해석...
  • ATP
    ATP ^ Carboxyethylisothiuronium chloride C3H7ClN2O2S = g/㏖ CAS 5425-78-5 백색~황갈색의 분말로 >98 % 용도 : [니켈도금]용 첨가제 첨가량 : 0.01~0.1 g/l, 소모량 : 1...