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무전해 도금에 의한 귀금속 미립자 촉매층의 부여와 습식 에칭에 의한 실리콘의 마이크로 패터닝
Electroless Deposition of Noble Metal Nano Particles as Catalyst and Subsequent Micropatterning of Silicon Substrate by Wet Chemical Etching

등록 : 2014.06.05 ⋅ 17회 인용

출처 : Electrochemistry, 3호 2008년, 일어 4 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

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기타 :

電解めっきによる貴金属微粒子触媒層の付与と湿式エッチングによるシリコンのマイクロパターニング

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자료요약
카테고리 : 합금/복합 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2020.12.01
직경 3 μm 에서 200 nm 범위의 폴리스틸렌 마이크로 입자를 사용하여 실리콘 요철구조의 주기를 나노미터 오더까지 미세화 시키는 것을 검토했다. 또한 2액법 활성화 전처리를 이용하여 팔라듐 입자 촉매의 위치 선택적 부여를 검토하고 무전해 도금의 석출 실버입자를 비교 대조 하여 실리콘 에칭 거동에 미치는 촉매 부여 ...
  • 무전해 팔라듐 도금 Palladium Electroless Plating 도금액 조성1 |1| 2 g PdCl2 4 ㎖ HCl 37 % 160 ㎖ NH3 28 % 10 g NaH2PO2·H2O 27 g NH4Cl 전체1 리터, 온도 55 ℃, 시간...
  • Ni-SiC 복합도금막을 형성한후 SiC 공석률에 따른 도금피막의 표면특성과 기계적 성질을 체계적으로 연구
  • 납합금전극 (양극) Pb 94% + Sb 6% 일반적인 크롬 도금의 양극 안티몬은 경도와 강성을 가지며 특히 크거나 무거운 양극에 매우 적합 표면 피막은 합리적으로 3가크롬을 관...
  • 극미량의 구리 Cu+2 첨가에 따라 상기처리에 있어서 페로시안화철 [Fe(CN)6]3- 의 환원속도가 비약적으로 증대함을 볼수 있다는 보고서
  • 강판상에 형성된 Al-Zn계 합금도금층, 상기 합금도금층상에 설치된 화성피막과 상기 화성피막의 합금 도금층측에 형성된 Cr화합물의 농화층으로 구성된다. 또한, 표면처리강...