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검색글 ELectrochem 519건
무전해 도금에 의한 귀금속 미립자 촉매층의 부여와 습식 에칭에 의한 실리콘의 마이크로 패터닝
Electroless Deposition of Noble Metal Nano Particles as Catalyst and Subsequent Micropatterning of Silicon Substrate by Wet Chemical Etching

등록 : 2014.06.05 ⋅ 12회 인용

출처 : Electrochemistry, 3호 2008년, 일어 4 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

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기타 :

電解めっきによる貴金属微粒子触媒層の付与と湿式エッチングによるシリコンのマイクロパターニング

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자료요약
카테고리 : 합금/복합 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2020.12.01
직경 3 μm 에서 200 nm 범위의 폴리스틸렌 마이크로 입자를 사용하여 실리콘 요철구조의 주기를 나노미터 오더까지 미세화 시키는 것을 검토했다. 또한 2액법 활성화 전처리를 이용하여 팔라듐 입자 촉매의 위치 선택적 부여를 검토하고 무전해 도금의 석출 실버입자를 비교 대조 하여 실리콘 에칭 거동에 미치는 촉매 부여 ...
  • 유기 고분자 레지스트층으로 부분적으로 마스킹 된 도체를 전기도금하는데 사용되는 니켈 전기도금조 또는 니켈합금 전기도금조가 개시되며, 니켈 전기도금조는 수용성 니켈...
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  • 스레인리스강의 화학연마 ^ Chemical Polishing of Stainless Steel 외부전극을 사용하지 않고 용액중의 캐소드반응을 이용하므로 복잡한 형태도 처리 가능하여 생산성과 가...
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