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검색글 KIST 11건
무전해도금 기술의 개발
Development of electroless plating technologies

등록 : 2008.09.22 ⋅ 34회 인용

출처 : KISTI, na, 한글 5 쪽

분류 : 해설

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 도금자료기타 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2021.01.11
환원제가 산화될때 방출한 전자를 금속이온이 받아들여 환원되면서 도금한 물건 위에 석출하는것이다. 무전해 도금층은 비정질 (아모르퍼스 /amorphous) 합금으로 되기 때문에 두께가 커져도 결정입자의 성장이 생기지 않으며 균일한 표면을 얻을 수 있는 특징이 있어서 내식성 및 내마모성이 있다. 무전해 도금은 전자제품...
  • Kale Kilit Factory 의 최상의 작동변수를 결정하기 위해 광택제 및 운반제가 사용되었다. 실험에 사용된 광택제 및 운반제의 구성이이 텍스트에 포함되어 있다. 또한 [[니...
  • 소각 중성자 산란법 을 활용하여 도금조건에 따른 크롬도금층 내외 극미세 크기의 결함의 크기와 분포를 정량적으로 측정하고자 함.
  • 이 새로운 현대 전기도금을 기획하면서 우리는 처음부터 근본적인 측면과 기술자체를 한권에 포함시키는 것이 불가능하다는 것을 깨달았다. 이러한 이유로 우리는 도금과학...
  • 라크와 바렐에 사용가는한 비시안 아연-니켈 합금도금액으로 최고 35도에 작업가능하며 전전류범위에서 광택이 일정한 12~15%의 니켈을 합금 도금을 할수 있다. 도금은 피복...
  • 이온플레이팅 · Ion Plating 기계내부를 10-3~10-5 Pa 의 고진공으로 만들고, 전자 빔을 증착제에 조사하여 증발시킨다. 증착원에 전압을 가한 (+) 이온으로 증착 입자는 피...